国家知识产权局：将修改完善集成电路布图设计保护条例，适应大规模集成电路发展需要

国家知识产权局局长申长雨在新闻发布会上表示，将统筹推进各类知识产权法律法规和制度规则的制修订工作。其中，修改完善集成电路布图设计保护条例，适应大规模集成电路发展需要，助力芯片产业做大做强，服务数字经济更好发展。（中国网）原文链接