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[半导体] 日本东京大学开发出新一代半导体加工技术,封装基板布线用孔降至6微米以下

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发表于 2022-12-17 21:13:08|显示全部楼层|阅读模式
东京大学的教授小林洋平等人携手味之素Fine-Techno (川崎市)等,开发出了在封装基板上形成直径6微米(微米为100万分之1米)以下微细孔洞的激光加工技术。利用此次开发的技术,可在Fine-Techno的绝缘薄膜上形成布线用的微细孔洞。利用此前的技术,约40微米是极限。此次是与三菱电机、涉足激光振荡器的Spectronix(大阪府吹田市)的联合研究成果。(界面)
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